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  • Minimization of thin film contact resistance
    [作者:Zhang, P; Lau, YY; Gilgenbach, RM,期刊:Applied Physics Letters, 页码:204103-204103 , 文章类型: Article,,卷期:2010年97-20]
  • The geometry that minimizes the electrical constriction resistance of thin film contact is identified for both Cartesian and cylindrical geometries. Assuming uniform resistivity on an idealized model, simple scaling laws...
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